真空离子镀膜设备具有较大的市场发展潜力

2017-12-29 10:59阅读:69

作者 : 千讯咨询   来源 / 本站原创

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进入壁垒有技术壁垒,真空离子镀膜设备设计开发、生产制造、质量控制等方面的能力是决定真空离子镀膜设备制造企业竞争力的关键因素。此外,行业内掌握核心技术的人才大多集中于少数技术先进、生产规模大的企业手中,造成行业内高技术人才十分短缺;客户壁垒,国内较为知名的大品牌的客户供应商产业链都相对稳定,而且大多数用户都比较信任知名品牌,新进入真空离子镀膜设备行业的企业需要快速建立销售渠道、开发新客户,以得到用户的信赖;资金壁垒,目前真空离子镀膜设备行业属于资金密集型行业,真空离子镀膜设备的研发和生产需要大量资金,行业进入需较高资金投入。

千讯咨询发布的中国真空离子镀膜市场前景调查分析报告显示,影响真空离子镀膜设备市场规模的因素主要有三个:

一是技术的发展与创新。与传统电镀工艺相比,真空离子镀膜是一种绿色镀膜技术,其最突出的优点是镀膜生产过程及镀制的产品对环境友好,在节能减排方面具有绝对的优势。但是,由于真空离子镀膜仍有许多有待解决的技术关键,比如镀层厚度控制、工件非镀表面的屏蔽等都有待进一步发展。这些不足也限制了真空离子镀膜在某些行业的应用。因此,技术的发展和创新是真空离子镀膜设备市场规模的影响因素之一;

二是宣传推广。目前,我国对真空离子镀膜设备的社会认知程度不高,这主要是由于真空离子镀膜设备的宣传力度不够造成的,这在一定程度上抑制了真空离子镀膜设备的市场规模;

三是下游行业的发展。真空离子镀膜设备应用领域广泛,包括建筑、五金、厨房卫浴、医疗设备和工具加工等行业,下游行业的发展对真空离子镀膜设备市场规模具有直接影响。

真空离子镀膜是一种绿色镀膜技术,可提高镀制产品的质量,增加镀膜品种,实现节能、减排、降耗、增效的目的。真空离子镀膜可镀材料范围广泛,不论金属、非金属表面上均可镀制金属或非金属薄膜,各种合金、化合物、或某些合成材料、半导体材料、高熔点材料亦均可镀覆。应用真空离子镀膜技术可以获得不同性能的表面层,比如防腐镀层、耐摩擦润滑镀层、硬质耐磨镀层以及装饰镀层等。技术的发展也会带动设备的发展,因此总的来看,真空离子镀膜设备具有较大的市场发展潜力。

随着技术的发展,我国真空离子镀膜的镀层材料由单一氮化钛,发展到氮化钛与氮化钛铝、碳氮化钛、氮化铬等多种材料并用。然后又进一步发展为多层复合镀层。远离平衡态过程的低温沉积技术日趋成熟,大幅度降低镀层内应力,使镀层的厚度能够达到数十,甚至上百微米,满足了发展高性能特种镀层的需要,如TiB2抗空蚀镀层、Ti(C,N)抗冲蚀镀层等。同时复合多层膜将得到更加广泛的应用,并向纳米复合膜发展。因此,市场对真空离子镀膜设备的需求也会随之增加。

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