真空离子镀膜是真空镀膜的一种。真空离子镀膜的原理是在真空条件下，采用低电压、大电流的电弧放电技术，利用气体放电使靶材蒸发并使被蒸发物质与气体都发生电离，利用电场的加速作用，使被蒸发物质及其反应产物沉积在工件上。
千讯咨询发布的中国真空离子镀膜市场前景调查分析报告显示，真空离子镀膜设备是真空离子镀工艺所需要到镀膜设备，包括多弧离子镀膜设备、复合离子镀膜设备、电子束蒸发真空镀膜设备和磁控溅射离子镀膜设备等。
离子镀膜层的沉淀离子来源于各种类型的蒸发或溅射源，从离子来源的角度可分成蒸发离子镀和溅射离子镀两大类：
1）蒸发离子镀
通过各种加热方式加热镀膜材料，使之蒸发产生金属蒸汽，将其引入以各种方式激励产生的气体放电空间中使之电离成金属离子，它们到达施加负偏压的基片上沉积成膜。
蒸发离子镀的类型较多，按膜材的气化方式分，有：电阻加热、电子束加热、等离子体束加热、高频或中频感应加热、电弧放电加热蒸发等；按气化分子或原子的离化和激发方式分，有：辉光放电型、电子束型、热电子束型、等离子束型、磁场增加型以及各类型离子源等。
2）溅射离子镀
通过采用高能离子对膜材表面进行溅射而产生金属粒子，金属粒子在气体放电空间电离成金属离子，它们到达施加负偏压的基片上沉积成膜。溅射离子镀有磁控溅射离子镀、非平衡磁控溅射离子镀、中频交流磁控离子镀和射频溅射离子镀等几种形式。
从产业链来看，真空离子镀膜设备行业的上游主要为原材料、配件以及技术开发等，下游方面，利用真空离子镀膜设备可以在金属、合金、导电材料，基本非导电材料（采用高频偏压）基体上进行镀膜。离子镀沉积的膜层可以是金属膜、多元合金膜、化合物膜；既可镀单一镀层，也可镀复合镀层，还可以镀梯度镀层和纳米多层镀层。采用不同的膜材、不同的反应气体以及不同的工艺方法和参数，可以获得表面强化的硬质耐磨镀层、致密且化学性质稳定的耐蚀镀层、固体润滑镀层、各种色泽的装饰镀层以及电子学、光学、能源科学等所需的特殊功能镀层。
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